ZnO/C3N4复合体系光催化性能的研究文献综述
2020-06-07 21:25:21
文 献 综 述
一、 ZnO/C3N4光催化剂的介绍
ZnO是一种新型的Ⅱ-Ⅵ族直接带隙宽禁带化合物半导体光催化剂。禁带宽度为3.34eV,与TiO2同属于宽禁带n型半导体氧化物。在常温下稳定,它五毒无味且没有污染。ZnO晶体结构为六方晶系,Zn2 离子的配位数为4,O2-的配位数也是4,属于纤锌矿结构。ZnO具有良好的压电效应和生物安全性,因此,ZnO在陶瓷,屏蔽隐身,压电材料,光电材料,高效催化材料和磁性材料等方面具有广阔的发展前景。
ZnO因为价格低廉,氧化能力强,作为一种潜在的光催化剂也引起了人们的广泛重视。但是ZnO作为光催化剂也存在一些缺点,在光催化反应中ZnO易光腐蚀,发生光溶解,还有就是ZnO的量子化效率低,不能吸收可见光。为此研究者们开展了大量的ZnO的改性工作,包括离子掺杂,贵金属沉积,半导体复合等。这些研究虽然取得了一定的成果,但要获得高活性高稳定性的可见光响应的ZnO光催化剂,还需要开展新的研究。
近年来发现在多种结构的C3N4中,类石墨烯的C3N4最稳定,具有优越的力学性能,较宽的光学带隙,较高的折射率和热导率,作为一种半导体材料,C3N4迅速成为光催化研究的热点。通过研究发现ZnO与C3N4的杂化得到的ZnO/C3N4光催化剂的催化性能大大得到了改善,该催化剂能够响应可见光的照射并且抑制了光腐蚀。作为一种新型的光催化剂具有很好的应用前景。
二、 ZnO光催化反应机理
ZnO是一种n型(电子导电型)半导体氧化物,其光催化原理可用半导体的能带理论来阐释。半导体化合物纳米粒子,由于其几何空间的限制,其电子的Fermi能级是分立的,而不是像金属导体中那样的连续的。在半导体化合物的原子或分子轨道中具有空的能量区域,这个空能区由充满电子的价带顶(价带缘)一直伸展到空的导带底(导带缘),被称为禁带宽度或带隙能(Eg),Eg在数值上等于导带与价带的能级差。ZnO的禁带宽度为3.34eV,对应的光吸收波长阀值为370nm左右。
当用光照射半导体化合物时,并非任何波长的光都能被吸收和产生激发作用,只有其能量E满足式(1)的光量子才能发挥作用,即:
E=hc/λ (1)
式中:h-普朗克常数,4.138#215;10-5ev.s