1. 毕业设计（论文）的内容和要求

内容：陶瓷膜具有耐高温、耐酸碱、强度高等优点，在液体分离领域得到了广泛应用。对陶瓷膜进行表面改性，可进一步提升其性能，但基于表面化学反应的改性方法工艺过程复杂，难于控制。原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD）是基于表面自限制化学反应过程的气固相薄膜沉积技术，可以在纳米尺度精确调控孔道结构，特别适用于多孔分离膜的改性和功能化。目前尚无适用于陶瓷膜的ALD设备，需要对ALD过程进行专门的优化设计。过程进行研究，在数学模型中考虑了两种气体源交替进入腔体中所引发不同的表面反应，并考虑表面活性位的数量及分布对ALD过程的影响。

要求：模拟计算结果的平均相对误差不超过5%。在数值模拟的基础上，提出一种ALD过程的优化方法。

2. 参考文献

1.徐南平. 无机膜的发展现状与展望. 化工进展，2000, (4):5-9.

2.邢卫红，范益群，徐南平. 无机陶瓷膜应用过程研究的进展. 膜科学与技术，2003, 23(4): 86-92.

3. 邢卫红，金万勤，陈日志，等. 陶瓷膜连续反应器的设计与工程应用. 化工学报，2010, 61(7): 1666-1673.

3. 毕业设计（论文）进程安排

3月进行开题报告与文献检索；

4月进行ald过程建模与调试；

5月进行结果的分析与讨论；