高岭石基插层材料的制备和介电性质研究文献综述
2020-07-01 20:49:54
文献综述 高岭石基插层材料的制备和介电性质研究 高岭土的理想化学式为Al2(Si2O5)(OH)4理论上的化学组成为46.54%的SiO2,39.50%的Al2O3和13.96% 的 H2O,是由1∶1的硅氧四面体和铝氧八面体组成的层状结构。
【7】高岭土作为一种重要的非金属矿产,不仅层间连接紧密,而且分散度低。
【1】 高岭石的结构不对称由于四面体和八面体层在1:1层中的叠加而产生大的叠加偶极,其与一侧的硅氧烷大环和另一侧的铝氧烷表面之间的H-键 导致矿物的内聚能量较大。
因此,高岭石应变层间空间中分子客体的嵌入比蒙脱石的情况要差得多。
【4】尽管高岭土不能像蒙脱土那样进行阳离子交换,但是可以通过极性有机小分子的嵌合复合来进行插层改性。
【2】高岭土插层改性是将极性小分子插层到高岭土层间,得到层间距更大的插层高岭土,然后根据不同的需要掺杂到各种基体中,达到在纳米尺度上以剥离状态均匀分散。
【2】高岭石有机插层复合物的制备及其应用研究是提高高岭石产品档次的重要途径,可以大幅度提高产品的附加值,有着十分重要的现实意义和理论意义。
【8】本文就高岭石基插层材料以及介电性质研究进行综述。
1.背景介绍 高岭石有机插层复合材料的研究始于20世纪60年代。
1966年,Ledoux将脲成功插入到高岭石层间,开创了高岭石的有机插层时代;【5】Andrw和 Wada用醋酸钾等低分子有机酸盐对高岭石的膨胀研究,并作为粘土矿物鉴定的一种手段。