1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

1 原子层沉积 ald沉积的特点即是自限制反应，不同于其他方法的优势在于：1）在基底表面制备的沉积层具有良好的均匀性和保形性；2）能够在埃米级尺寸上精确地控制沉积厚度。

因为ald是自限制反应，通过改变循环次数，能够在原子级的尺度上，精确地调控沉积层的厚度，沉积层的精度可达埃米级[1]；3）较低的反应温度。

传统的cvd反应在600~1000#176;c的温度下才能进行，而ald反应在低于100℃甚至室温下进行沉积[2]。

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

1、主要研究内容及关键技术 选择合适的基质，通过ald在上面沉积al2o3。

然后通过溶剂热合成法，以均苯三甲醛和对苯二胺为合成单体，直接在基质上合成cof-lzu1，然后再通过ald改性，调控其对不同分子量的粒子的通量和截留。

2、拟采取的研究方法、实施方案及可行性分析 1）研究方法： 本课题采用x射线衍射（xrd）、傅里叶红外光谱仪（ftir）、热重分析仪（tga）等对cofs粉体结构和性能进行表征；通过冷场发射扫描电镜（fesem）、原子力显微镜（afm）、透射电镜（tem）等对cofs片层结构和最终制备的均孔膜结构进行表征；通过渗透实验来评价膜的分离性能。