1. 毕业设计（论文）的内容和要求

针对当前磁控溅射离子镀因镀料粒子绕镀性差而难以获得厚度均匀的膜层、多弧离子镀易产生熔融态大颗粒喷溅而影响膜层质量这些技术遗憾，和基于对靶电流之本质是真空腔内电子由阴极（靶材）向阳极迁移通量的理解，依据气体放电物理中气体放电伏安特性的”欧姆-反欧姆”区间，通过大范围调节靶电流密度来实现镀料粒子的脱靶机制由当前磁控溅射电场环境的”级联弹性碰撞”脱靶过渡为”碰撞 热发射”混合脱靶机制再过渡到”热发射”脱靶的过程，在此过程中以金属Ti系薄膜为载体，以GCr15钢质基材为研究对象，研究薄膜沉积过程中热积累引起钢质基体的组织和性能改变，揭示基体热影响区、薄膜增厚和膜基结合强度随靶电流密度变化的一般规律。

2. 参考文献

[1] w. heinke, a. leyland, a. matthewsa. evaluation of pvd nitride coatings, using impact, scratch and rockwell-c adhesion test[j]. thin solid films, 1995, 270, 431-438.

[2] t. mews , m. ricjart, a. mougin, etal. comparative study of the epitalxial growth of cu on mgo(001)and on hydrongen terminated si(001)[j] . surface science, 2001, 481, 87-96.

[3] tang weizhong. the preparation principle technology and application(second edition) [m]. beijing: metallurgical industry press, 2003, 184-186.

3. 毕业设计（论文）进程安排