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Ni-Mo-P三元镀层的制备与表征任务书

 2020-04-25 20:19:34  

1. 毕业设计(论文)主要内容:

在电子器件内,凸点下金属化层(under bump metallisation)能有效抑制无铅焊点与铜基板的界面扩散反应速率。目前,ni-p镀层在工程界广泛使用,但其易晶化并形成脆性的ni3p晶化层,导致焊点失效。本课题通过表面沉积技术在传统ni-p镀层内掺杂mo元素,以改善ubm层的热学性能和扩散阻挡性能。设计(论文)主要内容:

1. 文献调研,了解国内外相关研究概括和发展趋势;

2. 通过表面沉积技术在铜基板上沉积一层ni-mo-p镀层;

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2. 毕业设计(论文)主要任务及要求

1. 查阅不少于15篇的参考文献(其中近5年英文文献不少于3篇),完成开题报告;

2. 掌握ni-mo-p三元镀层的制备工艺;

3. 表征ni-mo-p三元镀层的形貌及结构;

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3. 毕业设计(论文)完成任务的计划与安排

第1-3周:查阅相关文献资料,完成英文翻译。明确研究内容,了解研究所需原料、仪器和设备。确定技术方案,并完成开题报告。

第4-7周:按照技术方案,制备ni-mo-p三元镀层;

第7-10周:采用金相显微镜、sem、xrd、tg-dsc等分析测试技术对镀层的物相、显微结构和热力学性能进行测试;

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4. 主要参考文献

[1] dl liu, zg yang, c zhang, electroless ni-mo-p diffusion barriers with pd-activated self-assembled monolayer on sio2 [j]. materials science and engineering: b, 2010 (166): 67-75.

[2] jang m d. intermetallic compound spalling characteristics of sn-3.5ag solder over ternary electroless ni under-bump metallurgy [j]. journal of materials research, 2011, (24): 3032-3037.

[3] gs song, s sun, zc wang, cz luo, cx pan, synthesis and characterization of electroless ni-p/ni-mo-p duplex coating with different thickness combinations [j]. acta metallurgica sinica, 2017 (30): 1008-1016.

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