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掺杂对过渡金属硫族化合物电子结构调控的第一性原理研究开题报告

 2020-07-08 21:32:01  

1. 研究目的与意义(文献综述包含参考文献)

文 献 综 述

1.前言

随着科技的进步,传统的材料已越来越不能满足人们的需求,迫切需要人们去找寻具有高性能、高集成、低能耗等特点的新型材料。2004年,英国科学家 andre geim 和 konstantin novoselov 等人利用胶带法成功分离出单层石墨烯[1],为苦苦寻找新型材料的人们提供了新的方向。石墨烯是由碳原子按照 sp2 杂化成键所构成平面六边形蜂窝状结构,其中长距离π键的存在使其具有许多非凡的热学、力学和电子学方面的特质。它是目前已发现的最薄、最坚硬的纳米材料,同时具有高热导,低电导,高强度等特点,在半导体器件、能量转换与存储、传感器、储氢以及高频电路等领域有着广泛的应用。然而在接下来的众多研究中人们发现,尽管石墨烯具有许多优良特性,但由于本征石墨烯固有的”零带隙”极大的限制了其在半导体器件、集成电路等行业的应用,即使通过材料表面改性使其带隙打开,石墨烯其它已有的优良性能又可能会受到限制,这就促使人们去研究新的二维纳米材料[2-5]

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2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

1.要研究或解决的问题

与石墨烯的零带隙相比较,二维过渡金属硫族化合物(tmds)具有固有的半导体特性,优良的电学性能,为其在纳米器件方面的应用奠定了良好的基础。原子掺杂是调制二维材料性能的有效方法。本课题主要是通过对二维tmds主要有mose2、wse2、wte2 、mos2 和 ws2,进行原子掺杂,调制二维tmds 的电学性能,为二维tmds纳米电子器件方面的应用提供理论指导。

2.拟采用的研究手段

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