文 献 综 述 1.前言 光伏发电是解决能源问题和环境问题的重要途径之一。

提高光电转换效率，降低制造成本一直是光伏产业追求的目标。

光损失是影响太阳能电池光电转换效率的重要因素。

利用减反射薄膜和采用减反射结构，是降低太阳能电池表面的光反射，减少太阳能电池光损失的主要途径。

减反射结构包括倒金字塔、V型槽、正向随机金字塔等。

近几年来，光伏工业迅猛增长，2008年世界太阳电池产量达6000MW，2009年世界太阳电池产量突破10GW。

近10年太阳电池/组件的年平均增长率为42.7%，近5年的年平均增长率51％，已进入了出售能源的时代，强劲的市场需求促使各大公司纷纷扩容，也促使各个研究机构投入财力和人力不断提高当前电池的光电转换效率及开发新一代的太阳电池。

提高单晶硅太阳电池光电转换效率的主要措施之一是减小电池的光学反射，这可通过沉积减反射膜和表面织构两种方法来实现[1]。

表面织构化工艺是制备晶体硅太阳电池的一道重要的工艺，工艺结果的好坏对电池的光电转换效率及外观质量至关重要。

虽然单晶硅太阳电池表面织构化研究已有多年的历史，但高性能大面积均匀织构的问题一直未得到解决，工艺中经常碰到的难题是工艺的可重复性、均匀性、金字塔大小的控制，近期的研究工作又重新活跃起来。