1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

文 献 综 述 21世纪以来，电子信息产业在我国发展迅猛。

电子信息产业发展主要由电子材料和电子器件的发展带动。

材料领域，半导体材料和介电氧化物材料作为近年来应用最广，发展最快的两类典型电子信息材料。

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

一、本课题要研究的问题 研究hfo2:al薄膜中掺杂al组分对hfo2薄膜结构和电学性质的影响。

二、本毕业设计准备完成的方法 利用物理沉积技术制备系列不同组分的hfo2:al薄膜。

物理沉积技术：物理气相沉积(physical vapor deposition，pvd)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源#8212;#8212;固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。