1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

通过对于mos2薄膜制备以及表征方面论文的研读，了解了为什么要对mos2进行大量的开发研究，mos2的基本特性，应用，目前科研上采用的制备方式，优缺点以及研究进展。

2004年英国曼彻斯特大学geim a k等[1]利用机械胶带法从石墨中成功剥离单层石墨烯以来，人们开始对新型二维单层纳米材料进行火热的研究。

而二硫化钼（mos2）作为新型二维纳米材料的一种，因为其有与石墨烯类似的层状结构与独特的性能获得了广泛的关注。

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

经过论文的研读，以及多种不同方法制备超薄mos2薄膜的研究。

本人决定采用脉冲激光沉积的方法在sio2和蓝宝石al03衬底上研究制备超薄高质量mos2薄膜。

首先进行基片的清洗，将基片浸泡在丙酮中超声清洗10分钟，反应去除表面表面杂质，再用乙醇超声10分钟，最后用去离子水超声10分钟，反复次过程3-5次直到拿出基片时表面无水滴，只有一层致密的水膜，并且实验前用n2将其吹干。