直接沉淀法制备氧化锌粉体及其光催化性能研究开题报告
2020-04-14 17:29:43
1. 研究目的与意义(文献综述包含参考文献)
文 献 综 述
半导体光催化技术是一种新型的现代水处理技术,具有效率高、能耗低、反条件温和、适用范围广和减少二次污染等优点。其中,zno和tio2光催化剂由于具有无毒、降解效率高、反应速度快、价廉以及具有较好的物理化学稳定性等优点,得到了研究学者的广泛关注。尽管tio2被认为是目前最有效的光催化剂,但zno同样具有相似的禁带宽度3.2ev。此外,有学者发现在一些有机物的降解中zno表现出比tio2更优异的催化性能[1];相同条件下zno的产h2o2效率高且表面拥有更多的活性位[2],从而吸引了广大学者的研究兴趣。
1.氧化锌的基本性质
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2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案
半导体光催化技术是一种新型的现代水处理技术,具有效率高、能耗低、反应条件温和、适用范围广和减少二次污染等优点、随着人们对半导体材料光催化性能研究的深入,发现纳米zno作为功能材料也具有优异的光催化性能,且价格低廉、制备成本低和生物相容性良好等优点,应用广泛。
本课题主要是采用直接沉淀法来制备光催化剂zno,重点考察沉淀剂浓度、沉淀剂/zn盐比例、反应温度、滴加速度、陈化时间、煅烧温度、煅烧时间等因素对zno形貌的影响,采用xrd、sem等对zno粉体结构和形貌进行表征,并将不同形貌的zno用于亚甲基蓝降解实验中,考察不同形貌的zno光催化性能。
实验内容
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