等离子体射流阵列处理提高绝缘材料表面憎水性研究开题报告
2020-05-28 06:59:17
1. 研究目的与意义(文献综述包含参考文献)
1.概述
实验室里,常常用气体放电射线辐照、光电离、等方法来产生等离子体,其中最常用的是气体放电。得益于低温等离子体的优良特性,工业生产上对其需求越来越大,应用领域也越来越广。低温等离子体最大的特点就是能够在保持宏观温度较低的条件下,仍具有强大的化学活性。而如今,辉光放电、介质阻挡放电(简称dbd)、电晕放电、弧光放电和大气压等离子体射流(简称appj)等方法被应用于生产低温等离子体。射流低温等离子体相比其他低温等离子产生的方式,具有大量的高能量活性粒子,克服了局部温度过高的缺点,且形式灵活,不受改性空间束缚。可以被设计成各种各样的形状,尤其适合用于对聚合材料物体的表面进行改性。正是由于以上优点,射流低温等离子体已经被广泛应用于消毒杀菌、牙齿美白以及聚合物材料表面改性等等众多领域,各方面已取得了良好的效果。
2.等离子体射流阵列
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2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案
本课题要研究或解决的问题:
本课题通过建立大气压等离子体实验装置,研究含si憎水性射流阵列的电气特性和发光特性,研究不同条件下射流阵列对聚合物材料的改性效果。具体步骤如下:
(1) 查阅相关文献,熟悉大气压下等离子体射流和射流阵列的放电特性和机理,并掌握等离子体射流阵列对聚合物材料表面改性的方法,了解其应用领域。
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