文 献 综 述 一.课题研究背景及意义 低温等离子体表面处理是一种新兴的材料表面处理方法，已经逐渐被人们所熟识，并应用到众多行业中。

相比传统湿式表面处理方法严重污染环境，不生态环保等缺点，低温等离子体表面处理方法属于干式工艺，具有清洁环保，节省能源等优势，尤其适用于某些不便于液体接触的敏感材料的处理。

其次，低温等离子体处理仅涉及材料的极浅表面，改性层的厚度常常只有几个微米或纳米级别，材料主体性能受到的影响极小，因此，低温等离子体在材料表面处理技术中具有独特的应用价值，受到了国内外研究人员的广泛关注。

在多种低温等离子体的产生方式中，介质阻挡放电（DBD）相比于电晕放电和射流放电具有放电面积大，能量密度高的特点，十分适合用于材料表面处理。

在大气压下DBD等离子体通常表现为丝状，丝状模式DBD在放电空间存在大量高能量密度的电流细丝,其不均匀性及能量密度集中，使其难于对材料表面进行均匀处理，有时甚至会灼伤材料，限制了其在很多工业领域的应用前景。

相比于丝状模式DBD，均匀模式DBD可以对材料表面均匀处理，并且功率密度适中，不会灼伤材料，更适合用于大面积的材料表面改性。

因此，从大规模工业应用的角度出发，研制出可以在大气压下产生大面积均匀稳定低温等离子体的装置，并将其应用到材料表面处理的实际应用中具有重要的意义。

二.国内外研究现状及发展趋势 张凤涛等人[1]介绍了两种类型的低温等离子体处理装置，一种是间歇式低温等离子体处理装置，如图1所示，材料的输送在密闭的真空器内进行。

每卷材料处理完毕后，真空处理室开启一次，调换新的待处理材料卷。

这种类型的装置真空室体积要做的较大，且要经常反复进行重新抽真空，耗时耗能。