1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

文 献 综 述

一.课题研究背景及意义

随着工业生产的迅速发展，材料的应用领域越来越广，对材料表面性能的要求也越来越高，为此人们采用了多种方法对材料进行表面改性，以提高其表面性能从而适应不同的应用要求。文献报道的方法有湿化学法、力化学粘接法、高温熔融法、辐射法、离子束注入法、等离子处理法、准分子激光处理法、电解还原法等。其中在工业化生产中得到应用的只有湿化学法和等离子处理法。其中等离子体技术利用高压放电产生等离子体，其包含大量高活性自由基、电子、离子、激发态粒子等，是一种分子活化新技术，可替代高污染、高能耗、高成本、反应条件苛刻的传统化学工艺，具有处理过程绿色环保、节能高效的特点，符合我国能源与环保战略需求。目前，工业应用的等离子体大多是在几百帕的低气压下通过气体放电产生的辉光放电，但对于大规模工业生产，低气压等离子体存在两个重要的缺点:(1)放电反应室处于低气压状态，需采用真空系统，投资高且应用复杂； (2)采取低效率的分批处理需要不断的打开真空室取出成品、添加试品，然后重新抽真空，充入工作气体，难于连续生产。

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

本课题目的是通过大气压低温氩等离子dbd对ptfe表面进行改性，提高其憎水性，并借助分析手段研究处理前后ptfe表面特性和改性机理。

本题目的重点是通过查阅并广泛阅读大量中外文献，熟悉气体放电机理和应用原理，了解大气压下低温等离子射流技术的发展现状与趋势，选择合理的方式。

难点是添加憎水性含硅媒质研究其对dbd特性影响，及dbd对ptfe材料改性的实验条件的优化与改性结果的分析，相关工作量也较大。