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毕业论文网 > 文献综述 > 理工学类 > 电气工程及其自动化 > 正文

基于单片机的PWM直流可逆调速系统设计文献综述

 2020-04-24 10:00:12  

1.目的及意义

1.1 单片机的发展

第一阶段(1974年):单片机初级阶段由于技术限制,单片机采用双片的形式,而且功能比较简单,如仙童公司的F8实际上只包含了8位CPU、64字节RAM和2个并行I/O端口,因此,还需加一块3851(由1K ROM、定时/计数器和2个并行I/O端口构成)形成一台完整微型计算机。

第二阶段(1976年):低性能单片机阶段。以Intel 公司的MCS-48为列,采用了单片整体结构。即在一块芯片包含8位CPU、并行I/O口、8位定时/计数器、RAM和ROM等等,但无串行I/O口,中断处理也比较简单,片内RAM和ROM容量较小,其寻址范围有限,通常不超过4K字节。

第三阶段(1978年):高性能单片机阶段。这种单片机带有串行I/O,有多极中断处理,定时/计数器为16位,片内的RAM和ROM相对增加,有64K址范围,带有A/D转换接口。这类单片机有Intel 公司的MCS-51,Motorola公司的6801等。因为这类单片机应用的领域宽,目前还在不断持续的改进和发展着。

第四阶段(1982年):16位单片机阶段。16位单片机除了CPU 16位外,RAM和ROM容量进一步增大,实时处理的能力变得更加的强大。如Intel 公司的MCS-96,其集成120000管子/片, 12MHZ振幅,片内RAM为232字节,ROM为8K字节,8级中断处理,而且含有多通道10位A/D转换和高速输入/输出部件(HSIO),实时处理的能力是很强的。

1.2单片机现阶段发展的现状和发展趋势

1.低功耗CMOS化

MCS-51系列8031推出功耗达630mW,而现在的单片机普遍都在100mW左右,随着对单片机功耗要求越来越低,现在的各个单片机制造商基本都采用了CMOS(互补金属氧化物半导体工艺)。像80C51就采用了HMOS(即高密度金属氧化物半导体工艺)和CHMOS(互补高密度金属氧化物半导体工艺)。CMOS虽然功耗较低,但由于其物理特征决定其工作速度不够高,而CHMOS则具备了高速和低功耗的特点,这些特征,更适合于在要求低功耗象电池供电的应用场合。所以这种工艺将是今后一段时期单片机发展的主要途径。

2.微型单片化

现在常规的单片机普遍都是将中央处理器(CPU)、随机存取数据存储(RAM)、只读程序存储器(ROM)、并行和串行通信接口,中断系统、定时电路、时钟电路集成在一块单一的芯片上,增强型的单片机集成了如A/D转换器、PMW(脉宽调制电路)、WDT(看门狗)、有些单片机将LCD(液晶)驱动电路都集成在单一的芯片上,这样单片机包含的单元电路就更多,功能就越强大。甚至单片机厂商还可以根据用户的要求量身定做,制造出具有自己特色的单片机芯片。

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