1. 研究目的与意义及国内外研究现状

xrd技术已经成为表征异质外延结构的关键的通用的工具。它提供了强有力的相对快捷的无害的评估外延薄膜特征的手段。这个方法能够很好的测量外延薄膜和它们的基底之间晶体参数的不同。通过比较实验的和理论的曲线，这可能来推测几个更多的薄膜参量。

国内外研究现状

因为设备和技术如今已越来越普及，x射线分析法渐渐成为研究金属和测试材料的常见方法。在早期，大家大多用照相法，这种方法的缺点是消耗的时间非常多，然而测量强度的精度却很低。上世纪中期发明的计数器衍射法就没有了这些问题。计数器衍射仪法测试的速度非常快，同时测量强度时的精度很高。另外，由于可以通过计算机来控制，这种方法得到越来越多的使用。可是照相法却还是有它自己的有点，比如可以更好的探测微量的样品和研究新相。上世纪七十年代以后，出现强度很高的x射线源，灵敏度很高的探测器。另外应用电子计算机进行分析也越来越广泛。

2. 研究的基本内容

本文介绍了X射线理论，X射线的动力学原理，分析比较了X射线在表征单层膜和多层膜时的区别。本文还系统的阐述了XRD如何研究薄膜的应力，厚度，周期等晶体参数。另外还阐述了如何评价薄膜。接着简要介绍了XRD的应用现状以及新的发展。最后通过分析GeSi/Ge薄膜的实测曲线，得出了薄膜的一些晶体参数。

3. 实施方案、进度安排及预期效果

用一个月时间查阅论文，两个月时间完成理论部分和软件操作部分，用两个月的时间写完分析实测曲线以及中英文摘要的部分，最后一个月完成毕业论文撰写。预期共6个月时间

4. 参考文献

[1] 潘红雅.《半导体超晶格的x射线双晶衍射研究》[d].长春理工大学, 2006.

[2] 符贵山.《x射线运动学理论及其在半导体外延材料分析中的应用》 [d].北京工业大学, 2003.

[3] 冯淦 朱建军 沈晓明 张宝顺 赵德刚 王玉田 杨辉 梁骏吾 .《gan外延膜厚度的x射线双晶衍射测量》[j].《中国科学g辑》, 2003(2).