硅锗界面热阻的分子动力学模拟计算文献综述
2020-05-04 21:18:28
目的及意义
科技变化日新月异,按摩尔定律推算,在未来的10余年里,继续提高计算机的储存密度和运算能力将面临严峻的挑战,电子器件和设备的尺寸也由此变得越来越小,在更加苛刻的工作环境下,不断升高的运行速度和频率,对微纳尺度下的热运输提出了更高的要求。
除此之外,诸如改进的热障,高效热电能量转换、相变存储器、热辅助磁记录、纳米电子学热管理以及用于热疗的治疗药物等多种技术驱动因素也正在激发着对纳米级热输运应用物理的研究[2]。
而研究发现,当系统尺寸达到纳米量级时,热量传输则会受到两个因素的影响:声子域作用[3]和在声子弹道输运范围内的边界散射的增加[6]。边界和界面散射对微纳尺寸系统热传导的影响在支撑薄膜、超晶格、多种介质和纳米线等材料中均有体现,此外石墨烯和碳纳米管的复合材料中也可以明显看到界面对热流的阻碍作用。
综上,界面是纳米级热输运中的重要研究内容。
另外一方面,基于硅锗在电子学热管理方面混合使用范围比较广泛,且关于他们的研究也是热输运研究中的热点之一;因此选择硅锗作为界面热阻的研究材料十分有意义。
国内外研究现状
2012年,Chalopin 等人利用分子动力学模拟研究了Si/Ge界面热导,以及其与温度和周期厚度的依赖关系[4]。2013年,Z.Aksamija等研究了Si/Ge和Si1-xGex/Si1-yGey合金超晶格中基于单模声子玻尔兹曼输运方程在弛豫时间近似和全声子色散情况下的热输运,捕获了超晶格周期增加时导热系数的观测值的增加以及热导率的面内与横截面内的各向异性[10];2017年K.Gordiz使用新开发的界面电导模态分析方法研究了不同结晶和非晶Si/Ge界面处的热传导,该方法不依赖于PGM,因此可以用无序材料处理界面[9]。
另外一方面,对于热导率的实验测量也得到了发展。2005年,基于热风速仪线探头的扫描热显微镜sSThMd的理论和实验校准被提出[18]。除此之外,还有3ω法[16]、时域热反射法[17]、频域热反射法[19]、非侵入式拉曼测温法[22]。